[发明专利]一种石墨烯层间嵌入有序介孔碳的材料、其制备方法及用途在审

专利信息
申请号: 202310380214.5 申请日: 2023-04-11
公开(公告)号: CN116281977A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 杨继;汤丹瑜;杨乾栩;刘泽;刘春波;唐石云;朱瑞芝;李振杰;蒋薇;司晓喜;张凤梅;刘志华;李萌;朱洲海;彭琪媛;徐艳群;朱志杨;苏钟璧 申请(专利权)人: 云南中烟工业有限责任公司
主分类号: C01B32/184 分类号: C01B32/184;C01B32/194;C01B32/15;B82Y30/00;B82Y40/00;H01G11/36;H01G11/32;H01M4/62
代理公司: 北京市领专知识产权代理有限公司 11590 代理人: 陈有业;任永利
地址: 650231 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种石墨烯层间嵌入有序介孔碳的材料,所述材料为单层石墨烯与单层有序介孔碳层的有序交替堆叠而成,所述石墨烯与有序介孔碳的质量比为(1.0‑2.0)∶1;所述有序介孔碳为面心立方结构。本发明还公开了所述石墨烯层间嵌入有序介孔碳的材料的制备方法及用于用于电极材料、催化材料的用途。
搜索关键词: 一种 石墨 烯层间 嵌入 有序 介孔碳 材料 制备 方法 用途
【主权项】:
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