[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 202310428122.X 申请日: 2023-04-20
公开(公告)号: CN116936523A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 白石信仁;铃村直仁 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522;H01L23/528;H01L23/532
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 张宁;姚宗妮
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本公开涉及一种半导体器件。该半导体器件包括第一层间绝缘膜和第二层间绝缘膜、第一布线和第二布线、以及电阻器膜。第一布线设置在第一层间绝缘膜上。第二层间绝缘膜包括第一层和第二层。第一层设置在第一层间绝缘膜上以覆盖第一布线。电阻器膜设置在第一层上。电阻器膜包括硅铬、引入有碳的硅铬、镍铬、氮化钛和氮化钽中的至少一种。第二层设置在第一层上以覆盖电阻器膜。第二布线设置在第二层上。在第二层间绝缘膜的厚度方向上,与第二布线相比,电阻器膜更靠近第一布线。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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