[发明专利]半导体器件在审
申请号: | 202310428122.X | 申请日: | 2023-04-20 |
公开(公告)号: | CN116936523A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 白石信仁;铃村直仁 | 申请(专利权)人: | 瑞萨电子株式会社 |
主分类号: | H01L23/522 | 分类号: | H01L23/522;H01L23/528;H01L23/532 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 张宁;姚宗妮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本公开涉及一种半导体器件。该半导体器件包括第一层间绝缘膜和第二层间绝缘膜、第一布线和第二布线、以及电阻器膜。第一布线设置在第一层间绝缘膜上。第二层间绝缘膜包括第一层和第二层。第一层设置在第一层间绝缘膜上以覆盖第一布线。电阻器膜设置在第一层上。电阻器膜包括硅铬、引入有碳的硅铬、镍铬、氮化钛和氮化钽中的至少一种。第二层设置在第一层上以覆盖电阻器膜。第二布线设置在第二层上。在第二层间绝缘膜的厚度方向上,与第二布线相比,电阻器膜更靠近第一布线。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310428122.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。