[发明专利]垂直台面型锗掺镓太赫兹焦平面探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310432414.0 申请日: 2023-04-20
公开(公告)号: CN116581179A 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 吴翼飞;董祚汝;刘文辉;陈雨璐;杨绪起;王兵兵;陈栋;王晓东 申请(专利权)人: 上海微波技术研究所(中国电子科技集团公司第五十研究所)
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/0288;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/0236;H01L31/102;H01L31/18
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 高璀璀
地址: 200063 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种垂直台面型锗掺镓太赫兹焦平面探测器及其制备方法,包括:高导锗衬底,所述高导锗衬底的一面依次层叠设置有锗掺镓吸收层、正电极接触区以及氮化硅钝化层,所述氮化硅钝化层通过开孔形成有正电极孔;所述高导锗衬底的另一面设置有负电极接触区。本发明采用高导锗衬底外延锗掺镓吸收层,解决平面型探测器中离子注入形成吸收层厚度受限的问题,便于调控吸收层的掺杂浓度和厚度,提高吸收层对长波红外辐射的吸收效率及器件响应率;采用垂直台面型光电导结构设计,避免了本征层的生长,降低了工艺难度,同时较厚的吸收层也提升了器件的吸收能力,有利于大阵列焦平面器件制备,可以有效降低像元间串扰,从而减弱器件的噪声。
搜索关键词: 垂直 台面 型锗掺镓太 赫兹 平面 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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