[发明专利]垂直台面型锗掺镓太赫兹焦平面探测器及其制备方法在审
申请号: | 202310432414.0 | 申请日: | 2023-04-20 |
公开(公告)号: | CN116581179A | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 吴翼飞;董祚汝;刘文辉;陈雨璐;杨绪起;王兵兵;陈栋;王晓东 | 申请(专利权)人: | 上海微波技术研究所(中国电子科技集团公司第五十研究所) |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/0288;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/0236;H01L31/102;H01L31/18 |
代理公司: | 上海段和段律师事务所 31334 | 代理人: | 高璀璀 |
地址: | 200063 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种垂直台面型锗掺镓太赫兹焦平面探测器及其制备方法,包括:高导锗衬底,所述高导锗衬底的一面依次层叠设置有锗掺镓吸收层、正电极接触区以及氮化硅钝化层,所述氮化硅钝化层通过开孔形成有正电极孔;所述高导锗衬底的另一面设置有负电极接触区。本发明采用高导锗衬底外延锗掺镓吸收层,解决平面型探测器中离子注入形成吸收层厚度受限的问题,便于调控吸收层的掺杂浓度和厚度,提高吸收层对长波红外辐射的吸收效率及器件响应率;采用垂直台面型光电导结构设计,避免了本征层的生长,降低了工艺难度,同时较厚的吸收层也提升了器件的吸收能力,有利于大阵列焦平面器件制备,可以有效降低像元间串扰,从而减弱器件的噪声。 | ||
搜索关键词: | 垂直 台面 型锗掺镓太 赫兹 平面 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的