[发明专利]一种大尺度等离子体射流生成装置及方法在审

专利信息
申请号: 202310479541.6 申请日: 2023-04-28
公开(公告)号: CN116367404A 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 张若兵;崔伟胜;柴立 申请(专利权)人: 清华大学深圳国际研究生院
主分类号: H05H1/26 分类号: H05H1/26
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 王震宇
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种大尺度等离子体射流生成装置及方法,该装置包括射流管和射流腔室,射流管的出口位于射流腔室内,射流腔室具有排气结构和环境气体进气结构,环境气体进气结构用于向射流腔室内引入环境气体,射流管喷出的工作气体在射流腔室内形成向射流管的出口处流动的环流,且环境气体流入射流腔室后在环流的作用下向射流管出口处流动,改变射流管出口附近的气体组份及流场分布,从而形成大尺度等离子体射流。本发明通过设置射流腔室以及在射流腔室增加环境气体进气结构,在形成气体环流的同时改变射流管出口附近的气体组分,形成大尺度等离子体射流,提升等离子体作用于被处理物时的处理面积,降低应用成本。
搜索关键词: 一种 尺度 等离子体 射流 生成 装置 方法
【主权项】:
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