[发明专利]一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法在审
| 申请号： | 202310486945.8 | 申请日： | 2023-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN116447987A | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王文中;陈虹百;梁鹤 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 李微微 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种干涉‑荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量方法，针对干涉条纹法不适用于微米尺度以上的膜厚测量、荧光法微米尺度以下膜厚测量灵敏度欠佳的问题，本发明考虑到两种方法各自的优势，基于同一光路使用两种方法实现对同一位置的薄膜厚度测量，将荧光法与光干涉法在原位实现相互耦合，即可通过光干涉法计算得到的薄膜厚度对荧光法的标定关系式进行修正，从而可以提升荧光法在微米以下尺度的薄膜厚度测量灵敏度，扩大荧光法的有效量程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干涉 荧光 原位 耦合 染色 薄膜 厚度 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学，未经北京理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310486945.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
