[发明专利]一种隔离装置及等离子刻蚀设备在审
| 申请号： | 202310489674.1 | 申请日： | 2023-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN116364522A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 王俊 | 申请（专利权）人： | 上海微芸半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市一法律师事务所 11654 | 代理人： | 刘荣娟 |
| 地址： | 201299 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请提供一种隔离装置及等离子刻蚀设备，设置在等离子刻蚀设备的反应腔体内，反应腔体由顶盖和主体连接形成，隔离装置用于将顶盖与反应腔体内的等离子体隔离，隔离装置包括从上到下重叠设置的挡板、加热板和隔离板；其中，加热板上设置有加热件。本申请提供的隔离装置通过在挡板和隔离板设置加热板，具有较高的寿命，能够进行较好的散热。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 隔离 装置 等离子 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
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