[发明专利]一种快速制备硅微纳米结构的方法在审
| 申请号： | 202310520795.8 | 申请日： | 2023-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN116443810A | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 胡雅;廖致远;伍林;杨小于;张保国;刘盈 | 申请（专利权）人： | 武汉科技大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京知艺互联知识产权代理有限公司 16137 | 代理人： | 陈艳 |
| 地址： | 43000*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种快速制备硅微纳米结构的方法，首先在硅片表面化学沉积金属薄膜或旋涂微纳米碳材料溶液，得到预处理的硅片，然后在亚铁盐、氢氟酸和过氧化氢同时存在的条件下，对所述预处理的硅片进行腐蚀处理，得到硅微纳米结构。本发明基于金属催化刻蚀或碳催化刻蚀的基础上，利用由亚铁盐、氢氟酸和过氧化氢构成的Fenton体系产生的强氧化性的羟基自由基促进金属催化或碳腐蚀制备硅微纳米结构，实现快速制备硅微纳米结构，且本发明提供的方法简单易行、成本低廉并且便于大规模的工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快速 制备 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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