[发明专利]一种改善SONOS存储器GIDL漏电的方法在审
| 申请号： | 202310539336.4 | 申请日： | 2023-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN116507130A | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 钱猛;钱亚峰;熊凌昊;张磊;陈昊瑜 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H10B43/40 | 分类号： | H10B43/40;H10B43/30;H01L29/08;H01L21/336 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种改善SONOS存储器GIDL漏电的方法，提供半导体结构，半导体结构包括：基底上的区域包括SONOS器件区域和Core器件区域；位于基底上的栅氧层；SONOS器件区域和Core器件区域的栅氧层上分别形成有栅极结构；半导体结构上形成有覆盖所述栅极结构的氧化层，同时氧化层覆盖于栅极结构之外的栅氧层上；在氧化层上沉积SiN层；定义SONOS器件区域的LDD注入区，按LDD注入区将SONOS器件区域上除栅极结构侧壁之外的SiN层去除，依附于SONOS器件区域的栅极结构侧壁的SiN层形成为侧墙；沿侧墙在SONOS器件区域的LDD注入区进行离子注入；去除侧墙，之后去除Core器件区域的SiN层。在SONOS器件区域形成SIN侧墙，减少SONOS LDD注入区与其栅极结构的下方的栅氧层的交叠区域，达到减少GIDL漏电的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 sonos 存储器 gidl 漏电 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310539336.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：推送消息过滤方法、装置、计算机设备及存储介质
- 下一篇：一种集成式热管理系统
