[发明专利]一种高附着力的阻焊干膜光阻剂及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 202310553051.6 | 申请日： | 2023-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN116755290A | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 杜永杰;杨卫国;邓晓明;彭威;张卫国;王红平 | 申请（专利权）人： | 珠海市能动科技光学产业有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/032;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京腾远知识产权代理事务所(普通合伙) 11608 | 代理人： | 梁国海 |
| 地址： | 519000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种高附着力的阻焊干膜光阻剂及其制备方法与应用，属于线路板生产制作技术领域。该阻焊干膜光阻剂具有双层结构，分为上层光阻剂和下层光阻剂，上层光阻剂中含有活性稀释剂、热聚合抑制剂、光聚合单体、附着力促进剂、自由基光引发剂和紫外线吸收剂；下层光阻剂层包括活性稀释剂、高分子粘合剂、热聚合抑制剂、光聚合单体、自由基光引发剂、紫外光吸收剂。本发明提供的阻焊干膜光阻剂，能够结合阻焊干膜和高解析度的干膜光阻剂，形成高附着力的干膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 附着力 阻焊干膜光阻剂 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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