[发明专利]一种高温基座及基片加热镀膜方法

摘要

本发明公开一种高温基座及基片加热镀膜方法，基座包括：基片盘、空心主轴、调压组件、升降装置、加热装置和冷却装置；加热装置位于基片盘底部，用于加热基片；基片盘上设有调压组件，调压组件提供的工艺气体填充在基片与基片盘之间；冷却装置包括外冷却管、水箱和冷却盘，冷却盘位于加热装置底部，外冷却管环绕在加热装置外周，冷却水依次流经加热装置内部、外冷却管和冷却盘后循环至水箱；空心主轴分别与冷却盘和升降装置固接，在升降装置的驱动下，空心主轴带动基片盘在真空腔内往复升降。本发明具有结构紧凑、加热均匀性高且控制精准等优点，解决了因加热不均匀、基片易位移及基片装夹困难而导致基片镀膜质量低的问题，实现了基片高质量镀膜。