[发明专利]MLCC用高表面能低粗糙度离型膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202310570135.0 | 申请日： | 2023-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN116675889A | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 金闯;冯慧杰;李智;石翔雨 | 申请（专利权）人： | 斯迪克新型材料（江苏）有限公司;江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08L67/02;C09D183/07;C09D7/20 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 徐晨 |
| 地址： | 223800 江苏省宿迁市泗*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种MLCC用高表面能低粗糙度离型膜，包括基材层以及形成在所述基材层的一侧上的离型层；其中，所述离型层使用UV固化；所述离型层包括：离型主剂乙烯基醚封端聚硅氧烷，活性稀释剂小分子乙烯基醚封端聚硅氧烷或者季戊四醇四丙烯酸，光引发剂2‑羟基‑2‑甲基‑1‑苯基‑1‑丙酮。本发明还涉及该离型膜的制备方法。通过本发明形成的离型膜具有表面能高，粗糙度低，无排骨纹，平整度高的优点，适用于MLCC超薄流延厚度的应用，有效的解决超薄流延涂布时发生的缩边和针孔不良等问题。 | ||
| 搜索关键词： | mlcc 表面 粗糙 度离型膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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