[发明专利]一种晶圆对位标记的快速检测系统及方法在审
申请号: | 202310616172.0 | 申请日: | 2023-05-29 |
公开(公告)号: | CN116560180A | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 李显杰;窦志前;袁征 | 申请(专利权)人: | 江苏影速集成电路装备股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/66 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 吕永芳 |
地址: | 221300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶圆对位标记的快速检测系统及方法,属于曝光设备技术领域。本发明采用多种定位方式协同定位,依次为粗定位,精定位,考虑到图像变形等问题采用重心定位,在多种定位方式协同后,彻底摆脱缺陷、杂点、涂胶等情况对图像造成的影响,同时采用三次处理模块的重心校正法,避免图像在光刻中的变形对定位造成影响,有效地提升了定位精度;此外,采用方向矩阵进行图像相似判定,图像的方向矩阵更加不容易受到光线、杂点等情况的干扰,有效地提升了抗干扰能力;本发明对硬件设备的要求不高,可以降低成本,且相比于基于深度学习的检测方法,本发明无需进行复杂的训练和重复学习的过程,计算速度较快,因此检测效率较高。 | ||
搜索关键词: | 一种 对位 标记 快速 检测 系统 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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