[发明专利]使用同时存在的原位和远程等离子体源进行快速室清洁在审

专利信息
申请号: 202310634696.2 申请日: 2018-04-23
公开(公告)号: CN116936327A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 基思·福克斯;乔纳森·丘奇;詹姆斯·李;马修·马德洛;凯文·戈伯 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;张静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及使用同时存在的原位和远程等离子体源进行快速室清洁。一种用于清洁衬底处理系统的处理室的方法包括:向远程等离子体源(RPS)供应三氟化氮(NF3)气体;使用所述RPS产生RPS等离子体;向所述处理室供应所述RPS等离子体;将NF3气体作为旁路气体供应至所述处理室;在供应所述RPS等离子体的同时在所述处理室中激励原位等离子体;并且在清洁时间段期间使用所述RPS等离子体和所述原位等离子体两者清洁所述处理室。
搜索关键词: 使用 同时 存在 原位 远程 等离子体 进行 快速 清洁
【主权项】:
暂无信息
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