[发明专利]部分相干照明下的掩模近场模拟运算方法、装置及电子设备在审
| 申请号： | 202310636729.7 | 申请日： | 2023-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN116822448A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 韦亚一;李梓棋;董立松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398;G06F30/30 |
| 代理公司： | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人： | 王胜利 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请公开一种部分相干照明下的掩模近场模拟运算方法、装置及电子设备，涉及光刻系统领域。方法包括：将光瞳面划分为预设个数的不同入射方向的光源点；对每个光源点通过严格电磁场仿真，分别确定多个输入的训练版图图形的四个衍射近场矩阵；基于多个训练版图图形对应的多组四个衍射近场矩阵，分别确定对应的预设图形种类对应的光源点近场分布训练数据；基于多个光源点近场分布训练数据，通过最小二乘法分别确定对应的所有预设图形种类的衍射传输矩阵；在接收到目标入射光源的情况下，确定与目标入射光源对应的光源点；基于光源点对应的衍射传输矩阵对目标入射光源对应的目标掩模图形的近场分布进行运算，确定近场结果。 | ||
| 搜索关键词： | 部分 相干 照明 近场 模拟 运算 方法 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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