[发明专利]半导体器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202310649974.1 申请日: 2023-05-31
公开(公告)号: CN116613080A 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 陈珍;谢冬;姜玉丽 申请(专利权)人: 湖北江城实验室科技服务有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/492
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张李静;吴素花
地址: 430074 湖北省武汉市武汉东湖新技*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本公开实施例公开了一种半导体器件,该半导体器件包括:第一半导体结构,包括:具有多个第一键合触点的第一键合层;合围多个第一键合触点的第一密封环;第一密封环贯穿至少部分第一键合层;第二半导体结构,包括:具有多个第二键合触点的第二键合层,具有多个第三键合触点的第三键合层;合围多个第二键合触点的第二密封环,第二密封环贯穿至少部分第二键合层;合围多个第三键合触点的第三密封环,第三密封环贯穿至少部分第三键合层;第三半导体结构,包括:具有多个第四键合触点的第四键合层;合围多个第四键合触点的第四密封环,第四密封环贯穿至少部分第四键合层;第一键合层与第二键合层键合;第三键合层与第四键合层键合。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制作方法
【主权项】:
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