[发明专利]电子束曝光剂量的确定方法及装置在审
| 申请号： | 202310744476.5 | 申请日： | 2023-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN116931383A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 曹晨乐;陈晨;韩春营 | 申请（专利权）人： | 中科晶源微电子技术（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 | 代理人： | 张婷婷;杨彦鸿 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请提供一种电子束曝光剂量的确定方法及装置，涉及半导体技术领域，该方法包括：基于版图数据，确定图形单元；在图形单元上设置评估点；基于每个所述图形单元的曝光剂量，对所述版图数据进行仿真处理，以得到每个所述评估点处的强度值；基于每个所述图形单元上的评估点处的强度值和误差函数，确定每个所述图形单元的强度误差值；判断所述强度误差值是否满足预设条件；在所述强度误差值不满足预设条件的情况下，基于所述强度误差值，调整每个所述图形单元对应的曝光剂量，并返回执行所述基于每个所述图形单元的曝光剂量，对所述版图数据进行仿真处理，以得到每个所述评估点处的强度值的步骤，直至得到每个所述图形单元对应的目标曝光剂量。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 曝光 剂量 确定 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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