[发明专利]化学气相沉积设备的抽气控制方法、装置、介质及设备在审

专利信息
申请号: 202310761233.2 申请日: 2023-06-26
公开(公告)号: CN116770275A 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 厉冰峰 申请(专利权)人: 盛吉盛半导体技术(上海)有限公司
主分类号: C23C16/52 分类号: C23C16/52;C23C16/44
代理公司: 北京市竞天公诚律师事务所 11770 代理人: 王康名;徐民
地址: 201304 上海市浦东新区自由贸*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种化学气相沉积设备的抽气控制方法、装置、介质及设备,该化学气相沉积设备的抽气控制方法包括:当化学气相沉积工艺进入抽气阶段时,控制化学气相沉积设备的节流阀开启预设开度;控制抽气泵抽取化学气相沉积设备的反应腔室内的气体;每达到预设条件时,控制增大节流阀的开度,直至节流阀完全开启。本发明解决了气相沉积工艺在抽气阶段易在晶圆表面附着颗粒物,导致晶圆缺陷,降低晶圆良率的问题。
搜索关键词: 化学 沉积 设备 控制 方法 装置 介质
【主权项】:
暂无信息
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