[发明专利]一种半导体超纯水循环使用的研磨废水处理设备及工艺在审
| 申请号： | 202310788472.7 | 申请日： | 2023-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN116924531A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 张永健;谢海;孙佳君;张家晖 | 申请（专利权）人： | 高频（北京）科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/48 | 分类号： | C02F1/48;C02F103/34 |
| 代理公司： | 上海汇知丞企知识产权代理有限公司 31468 | 代理人： | 胡志凤 |
| 地址： | 100176 北京市通州区北京经济*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明涉及半导体研磨废水处理技术领域，尤其为一种半导体超纯水循环使用的研磨废水处理设备及工艺，该设备包括带有支撑柱的沉淀筒，所述沉淀筒的顶端连通有进水管，所述沉淀筒的底端中心处通过密封轴承转动连接有排污管，所述排污管的底端连通有排污阀，所述排污管的顶端外侧开设有排污口，所述排污管的顶端外侧固定连接有刮板，所述刮板与沉淀筒的底端内侧滑动连接，所述刮板的外缘位置设置有朝向转动方向的卷曲，所述刮板与排污管的连接夹角为锐角，通过所述刮板的转动使Fe |
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| 搜索关键词： | 一种 半导体 超纯水 循环 使用 研磨 废水处理 设备 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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