[发明专利]一种高匀光性光束整形器的制备方法在审
| 申请号： | 202310792121.3 | 申请日： | 2023-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN116755289A | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 范盛鑫;范长江;洪钦洋;兰博望;林新煜;毛尔杰;吴琼 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 321000 浙江省金*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种高匀光性光束整形器的制备方法，技术核心在于光束整形器的设计和制作。设计的全息图的灰度按照圆形或正多边形的几何图形进行填充，几何图形的尺寸和位置排布按照设计的方式调控，灰度数值大小由灰阶与灰度最大值决定。设计好的全息图利用全息缩微输出系统打印在光刻胶板上，光刻胶板经过曝光显影后，在光刻胶表面留下凹坑系统。全息图设计方案和曝光显影时间决定了凹坑系统的结构与排布,此种方法制备出的光束整形器对透射光束的整形能力好，光强分布均匀性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高匀光性 光束 整形 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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