[发明专利]光场采集结构、方法及设备在审

专利信息
申请号: 202310796591.7 申请日: 2023-06-30
公开(公告)号: CN116819879A 公开(公告)日: 2023-09-29
发明(设计)人: 李亚鹏;董学;张浩;李扬冰;胡飞涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
主分类号: G03B37/04 分类号: G03B37/04;G03B17/00;G03B13/32;G02B7/04
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 丁芸;马敬
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明实施例提供了光场采集结构、方法及设备,光场采集结构包括:选通窗口层、主透镜、成像单元阵列以及成像传感器;主透镜、成像单元阵列和成像传感器依次间隔设置;选通窗口层上设有选通窗口,选通窗口层被配置为:通过选通窗口约束光线在主透镜上的透射区域;选通窗口为选通窗口层上的透光区域;图像传感器被配置为感测入射至透射区域,并依次经过主透镜、成像单元阵列透射的光信号。本发明实施例提供的光场采集结构,可以解决光场图像分辨率较低的问题。
搜索关键词: 采集 结构 方法 设备
【主权项】:
暂无信息
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