[发明专利]一种用于光刻胶的聚合物树脂、负性光刻胶及回收方法在审
| 申请号： | 202310809394.4 | 申请日： | 2023-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN116655856A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 周钰明;刘天赐;卜小海;何曼;王泳娟 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C08F283/02 | 分类号： | C08F283/02;G03F7/30;C08F212/14;G03F7/038 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 211189 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光刻胶的聚合物树脂、负性光刻胶及回收方法。聚合物树脂的制法为：利用功能性聚碳酸酯、对乙酰氧基苯乙烯、引发剂、星形RAFT剂制备聚合物树脂。利用2‑苄基(甲基)氨基‑9H‑硫杂蒽‑9‑酮、3‑氯丙基三乙氧基硅烷、碳酸钾、三乙氧基硅烷化合物和1,1,1,1,3,3,3‑六甲基二硅氧烷制备光引发剂。将聚合物树脂、光引发剂和添加剂、溶剂复配得光刻胶。该负性光刻胶具有良好热稳定性，并可通过特异性滤膜实现回收再利用，回收率达79～83％。本发明结合链自由体积设计和移动性控制，提升了材料玻璃化转变温度；并可实现光刻胶废液再循环。该负性光刻胶可用于晶圆级先进封装、微纳加工、高端光学等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 聚合物 树脂 回收 方法 | ||
【主权项】：
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