[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法在审
| 申请号： | 202310823157.3 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN116774533A | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 小林大辅 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本公开涉及曝光装置以及物品的制造方法。曝光装置一边使原版和基板在扫描方向上移动一边对基板进行曝光，具有利用来自光源的光对原版的被照明面进行照明的照明光学系统。照明光学系统包括：第1遮光部，配置于从被照明面的共轭面向光源侧离开的位置；第2遮光部，配置于从共轭面向被照明面侧离开的位置；以及遮蔽部，配置于第1遮光部与第2遮光部之间，划定被照明面的照明范围，沿着照明光学系统的光轴的方向上的共轭面与第1遮光部之间的第1距离以及沿着光轴的方向上的共轭面与第2遮光部之间的第2距离的和是5mm以上并且20mm以下，第1遮光部以及第2遮光部被配置成第1距离和第2距离不同。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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