[发明专利]新型反射结构、GaN基LED芯片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310870051.9 申请日: 2023-07-17
公开(公告)号: CN116936707A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 赖奕彬;金力;喻文辉;杨杰 申请(专利权)人: 晶能光电股份有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/40;H01L33/60;H01L33/62
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330096 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种新型反射结构、GaN基LED芯片及其制备方法,其中,新型反射结构包括:介电反射层,由介电材料形成有第一区域和第二区域,第一区域和第二区域于介电反射层的边缘处相接形成一台阶状结构;台阶状结构中,位于第一区域的介电反射层包括第一表面,位于第二区域的介电反射层包括第二表面,且第一表面高度大于第二表面高度;金属反射层,形成于介电反射层的第二区域表面。其通过将介电反射层边缘区域形成台阶状结构,且形成第一透明导电层后,在台阶状结构第三表面和第一透明导电层的侧边之间形成空隙,以此避免在光刻胶侧壁大量堆积甚至出现毛刺的现象,降低芯片可能出现的漏电风险。
搜索关键词: 新型 反射 结构 gan led 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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