[发明专利]一种金刚石集成半导体制冷器结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310873049.7 申请日: 2023-07-17
公开(公告)号: CN116669521A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 赵柯臣;朱嘉琦;关晓宇;赵继文;代兵 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: H10N10/17 分类号: H10N10/17;H10N10/13;H10N10/01
代理公司: 哈尔滨市松花江联合专利商标代理有限公司 23213 代理人: 侯静
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种金刚石集成半导体制冷器结构及其制备方法,涉及半导体制冷器结构及其制备方法。解决现有金刚石基半导体制冷器无法实现主‑被动一体式的问题。结构由金刚石衬底、下金属电极、第一型热电偶、第二型热电偶、金刚石生长层一、上金属电极及金刚石生长层二组成;方法:一、通过光刻和物理气相沉积技术,在金刚石衬底表面沉积下金属电极;二、通过光刻和物理气相沉积技术,或者通过焊接技术,制备第一型热电偶和第二型热电偶;三、利用化学气相沉积技术,制备金刚石生长层一;四、通过光刻和物理气相沉积技术,沉积上金属电极;五、利用化学气相沉积技术,制备金刚石生长层二。本发明用于金刚石集成半导体制冷器结构及其制备。
搜索关键词: 一种 金刚石 集成 半导体 制冷 结构 及其 制备 方法
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