[发明专利]磁粒子成像中无磁场点瞬时位置的相位偏移校准方法在审
申请号: | 202310885901.2 | 申请日: | 2023-07-18 |
公开(公告)号: | CN116930843A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 田捷;卞忠伟;张泽宇;安羽 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G01R35/00 | 分类号: | G01R35/00 |
代理公司: | 北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙) 11576 | 代理人: | 郭文浩;尹文会 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明属于磁粒子成像技术领域,具体涉及一种磁粒子成像中无磁场点瞬时位置的相位偏移校准方法,旨在解决现有的无磁场点瞬时位置的相位偏移校准方法需要对MPI装置中每个器件都进行单独的测量或计算,导致工作量大、校准过程所需时间长,调节麻烦的问题。本方法包括:采集磁粒子响应信号及电流强度信号,作为输入信号;基于输入信号,循环对MPI装置成像过程中无磁场点的瞬时位置进行相位自动调制;相位自动调制结束后,求解相位偏移的最优解;根据相位偏移的最优解,对MPI装置中无磁场点的瞬时位置再次进行相位自动调制,得到最终相位偏移校准后的瞬时位置、瞬时速度。本发明不需要对硬件进行设置,大大降低相位调制难度、方便人员操作。 | ||
搜索关键词: | 粒子 成像 磁场 瞬时 位置 相位 偏移 校准 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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