[发明专利]一种双面研磨抛光设备用上盘调节机构在审
| 申请号： | 202310888631.0 | 申请日： | 2023-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN116713871A | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 任明元;梁春;刘文平 | 申请（专利权）人： | 苏州博宏源机械制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B7/17;B24B41/00;B24B55/00;B24B47/04;B24B47/20;B24B41/02 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 康亚健 |
| 地址： | 215100 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及研磨抛光领域，为了解决现有的上盘调节机构调节高度需要另外的驱动设备的缺点，而提出的一种双面研磨抛光设备用上盘调节机构，包括顶板和上盘，顶板中部贯穿并转动连接有套筒，顶板底部设有驱动机构，套筒内插接有插杆，上盘安装于插杆的底端，插杆的上半部分外周开设有竖槽，插杆的下半部分外周开设有螺纹，顶板一侧贯穿有移动柱，移动柱侧面焊接有横板，横板的顶部焊接有第二弹簧，顶板顶部设有对插杆进行限制的限制机构，插杆底端设有对移动柱固定的固定机构。本发明仅通过一个正反电机不仅可带动上盘升降还可带动上盘转动，调节高度和转动互不影响，降低设备成本，且避免电源线出现缠绕、脱离等风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 研磨 抛光 备用 上盘 调节 机构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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