[发明专利]碲镉汞平面pn结红外探测器半导体器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310910581.1 申请日: 2023-07-24
公开(公告)号: CN116936669A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 何温;郝斐;喻松林;赵超;王鑫;杨海燕;柏伟;折伟林 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/18;H01L31/0296
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 华枫
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提出了一种碲镉汞平面pn结红外探测器半导体器件及其制备方法,碲镉汞半导体器件包括:衬底层、器件下层、过渡层和器件上层,器件下层生长于衬底层,过渡层生长于器件下层,器件上层生长于过渡层;其中,器件下层和器件上层的碲镉汞Hg1‑xCdxTe中的组分x值相同,过渡层的碲镉汞Hg1‑xCdxTe中的组分x值大于器件下层、器件上层的碲镉汞Hg1‑xCdxTe中的组分x值。本发明可以在相邻的n层和过渡层i层、过渡层i层和p层间形成两个空间电荷区,增加了原来空间电荷区宽度,在光照条件下可以产生更多的电子‑空穴对,并在内建电场的作用下被电极有效的收集。同时,过渡层i层形成的势垒区可以有效减小暗电流,从而提高了器件性能。
搜索关键词: 碲镉汞 平面 pn 红外探测器 半导体器件 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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