[发明专利]一种掩模版的污渍去除方法

摘要

本发明提供一种掩模版的污渍去除方法。掩模版是一种图像处理技术，用于从图像中提取对象或感兴趣区域；其工作原理为利用事先准备好的掩模版，通过将掩模版应用到图像处理中，将与掩模版相匹配的区域提取出来，而忽略其他区域；掩模版在实际使用中很容易沾染来自空气中的灰尘等污渍，影响其工作效率；传统清洗方法对掩模版的清洗存在不彻底的问题，掩模版在使用过程中产生的污渍沾染难以清洗干净；本发明提供的污渍去除方法能有效去除掩模版的污渍，增加了掩模版的使用效率，延长了掩模版的使用寿命。