[发明专利]一种面向阵列化数字光刻机的光机电控制系统在审

专利信息
申请号: 202310929492.1 申请日: 2023-07-26
公开(公告)号: CN116931387A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 章军辉;王静贤;郭晓满;陈明亮;彭良强;陈大鹏 申请(专利权)人: 无锡物联网创新中心有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G05B19/042
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 姚莹丽
地址: 214028 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本申请公开了一种面向阵列化数字光刻机的光机电控制系统,涉及光刻机技术领域,包括:主控FPGA与多个从控FPGA;所述主控FPGA,用于与工作站以及各所述从控FPGA通讯,将所述工作站发送的曝光指令数据报文转发给所述从控FPGA,以及控制所述从控FPGA执行并行曝光任务;所述从控FPGA,用于根据曝光指令数据执行并行曝光任务;其中,每个所述从控FPGA独立控制c×c×m路激光,且c×c×m×p≥N×N;c×c表示一个逻辑阵列,m为层数,p为所述从控FPGA的个数,N×N表示光纤面阵的大小。应用该光机电控制系统能够有效提升无掩膜光刻机的光刻效率。本申请还公开了一种阵列化数字光刻机,同样具有上述技术效果。
搜索关键词: 一种 面向 阵列 数字 光刻 机电 控制系统
【主权项】:
暂无信息
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