[发明专利]一种TM022模式微波等离子体金刚石膜沉积装置在审
申请号: | 202310970540.1 | 申请日: | 2023-08-03 |
公开(公告)号: | CN116926501A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 邹广田;贾学林;刘学;吕宪义;李柳暗;王启亮 | 申请(专利权)人: | 吉林大学;吉林大学深圳研究院 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/50 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 王恩远 |
地址: | 130012 吉林省长春市*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明的一种TM022模式微波等离子体金刚石膜沉积装置,属于微波等离子体化学气相沉积技术领域。结构包括进气孔(1)、腔体(2)、观察窗口(3)、测温窗口(4)、等离子体半球(5)、样品台(6)、铜台(7)、环形石英玻璃(8)、倒圆台底柱(9)、出气孔(10)、微波同轴传输端口(11)、顶部调谐模块(12)。该装置采用TM022谐振模式,能够在高功率条件下实现沉积大面积高质量的金刚石薄膜生长。 | ||
搜索关键词: | 一种 tm022 模式 微波 等离子体 金刚石 沉积 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的