[发明专利]光学透明结构及其性能优化方法、装置、电子设备及介质在审
| 申请号： | 202310987166.6 | 申请日： | 2023-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN116931150A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 杨俊波;农洁;李宁;姜鑫鹏;韦雪玲;张伊祎;马汉斯 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/26 | 分类号： | G02B5/26;G02B5/20;G02B1/11;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 曾志鹏 |
| 地址： | 410003 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种光学透明结构及其性能优化方法、装置、电子设备及介质，包括依次连接的微纳装置、第一介电间隔层、磁盘阵列、第二介电间隔层、红外反射层及抗反射层组成，其中微纳装置、第一介电间隔层、磁盘阵列构成阵列，其中微纳装置和磁盘阵列为银膜，第一介电间隔层、第二介电间隔层及抗反射层采用氮化硅，以及采用基于遗传算法的逆向优化，对光学透明结构进行优化。本发明的有益效果为：通过光学透明结构及基于遗传算法的逆向优化，实现了可见光、红外及激光波段的多波段兼容性，同时实现热管理功能。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 透明 结构 及其 性能 优化 方法 装置 电子设备 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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