[发明专利]一种三代半导体用等静压石墨舟用支撑舟脚有效
申请号: | 202310999096.6 | 申请日: | 2023-08-09 |
公开(公告)号: | CN116732501B | 公开(公告)日: | 2023-10-10 |
发明(设计)人: | 吕尊华;冯于驰;纪斌 | 申请(专利权)人: | 福建福碳新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50;C23C16/34;B08B1/00 |
代理公司: | 常州市天龙专利事务所有限公司 32105 | 代理人: | 于雅洁 |
地址: | 366011 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种三代半导体用等静压石墨舟用支撑舟脚,涉及石墨舟技术领域,包括舟体、舟脚、电极块、支撑柱、浮动套、空心套;多个水平穿设于空心套上的刮板,刮板在空心套上能自由滑动;用于在空心套朝上移动时,能够驱动多个刮板沿空心套径向运动的驱动部;用于在空心套朝上移动时,驱动刮板绕支撑柱轴向旋转的旋转部。当舟体放置于管式PECVD设备内时,随着舟体的下放,空心套将相对舟脚朝上移动,将由旋转部驱动多个刮板绕支撑柱的轴向旋转,使得多个刮板能够旋转并对管式PECVD设备的电极座表面进行清理,进而将电极座表面氮化硅粉末及碎片刮出且远离舟脚,使得能够避免氮化硅粉末或碎片与舟脚接触,进而造成舟脚与电极座接触不良的现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 静压 石墨 支撑 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的