[发明专利]中心旋流-双同轴剪切喷注器在审
申请号: | 202311000813.6 | 申请日: | 2023-08-09 |
公开(公告)号: | CN116877294A | 公开(公告)日: | 2023-10-13 |
发明(设计)人: | 俞南嘉;蔡国飙;何浩东;李天文;周闯;狄思含 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | F02K9/52 | 分类号: | F02K9/52 |
代理公司: | 北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463 | 代理人: | 陶程程 |
地址: | 100089*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请涉及航空航天技术领域,尤其是涉及中心旋流‑双同轴剪切喷注器。中心旋流‑双同轴剪切喷注器包括壳体;壳体内形成有用于导通第一推进剂的第一通道和分别用于导通第二推进剂的一号第二通道和二号第二通道;第一通道的导出部形成于一号第二通道与二号第二通道之间;本申请具有三个出口,用于导通第一推进的出口位于用于导通第二推进的两个出口之间,也就说,导出的第一推进剂的两面会分别与第二推进剂接触并参加反应;相对于现有技术中的具有两个出口的喷注器结构而言,本申请的燃烧面积明显增加,可以明显提升燃烧的效率,缩短完全燃烧所需的长度,进而缩短在大流量、显著偏离当量混合比等工况下工作时气‑气燃烧室的设计长度。 | ||
搜索关键词: | 中心 同轴 剪切 喷注器 | ||
【主权项】:
暂无信息
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