[发明专利]一种SiC MOSFET的元胞结构及制作方法在审
申请号: | 202311074197.9 | 申请日: | 2023-08-24 |
公开(公告)号: | CN116936606A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 杨啸;杨承晋 | 申请(专利权)人: | 深圳市森国科科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 深圳砾智知识产权代理事务所(普通合伙) 44722 | 代理人: | 张合成 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤海*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种SiC MOSFET的元胞结构,该方法包括:晶圆;掺杂区,位于所述晶圆的上表面中,所述掺杂区的边缘呈齿状结构;栅极,位于所述晶圆之上,且所述栅极呈环状结构,覆盖在所述掺杂区的边缘之上。通过改变碳化硅MOSFET的元胞结构,提升碳化硅MOSFET的沟道密度和沟道电阻,降低比导通电阻的技术效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 sic mosfet 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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