[发明专利]一种SiC MOSFET的元胞结构及制作方法在审

专利信息
申请号: 202311074197.9 申请日: 2023-08-24
公开(公告)号: CN116936606A 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 杨啸;杨承晋 申请(专利权)人: 深圳市森国科科技股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 深圳砾智知识产权代理事务所(普通合伙) 44722 代理人: 张合成
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤海*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种SiC MOSFET的元胞结构,该方法包括:晶圆;掺杂区,位于所述晶圆的上表面中,所述掺杂区的边缘呈齿状结构;栅极,位于所述晶圆之上,且所述栅极呈环状结构,覆盖在所述掺杂区的边缘之上。通过改变碳化硅MOSFET的元胞结构,提升碳化硅MOSFET的沟道密度和沟道电阻,降低比导通电阻的技术效果。
搜索关键词: 一种 sic mosfet 结构 制作方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市森国科科技股份有限公司,未经深圳市森国科科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202311074197.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top