[实用新型]一种半导体反应腔室

摘要

本实用新型提供了一种半导体反应腔室，涉及半导体制造设备技术领域，为解决升降机构带动边缘保护环升降过程中，极易发生晃动，致使边缘保护环与基环碰撞产生颗粒的问题。该半导体反应腔室中，基座的外缘设置多个第一导向结构，第一导向结构具有导向孔，多个升降杆分别一一对应地穿设于多个导向孔；升降杆包括相连的第一杆件和第二杆件，第一杆件沿升降方向与导向孔滑动配合，第二杆件与边缘保护环接触配合。本实用新型避免了边缘保护环因升降杆晃动而偏心导致的与基环碰撞的问题，从而有效防止了因边缘保护环与基环碰撞而产生颗粒的情形发生，而且，还能够保证边缘保护环与晶圆的同心。