[实用新型]一种雾化器及PECVD镀膜装置有效
申请号: | 202320284357.1 | 申请日: | 2023-02-07 |
公开(公告)号: | CN219490153U | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | 安祥乐;云洋;苏建华;李顺 | 申请(专利权)人: | 深圳奥拦科技有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/511;C23C16/505 |
代理公司: | 北京市天元律师事务所 16010 | 代理人: | 李婧 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型适用于雾化器技术领域,提供了一种雾化器及PECVD镀膜装置,雾化器包括:内设置有腔体的阀体,阀体设有与腔体连通的进液口;盖设于阀体并封装腔体的盖板;与阀体连接的连接座,连接座设有与腔体连通的出雾口;可拆卸固定于腔体内的多个挡板,相邻两个挡板相对间隔形成一连通空间,各连通空间依次连通形成相应雾化路径的雾化通道,雾化通道连通进液口与出雾口;填充于雾化通道内的导热多孔填充物;设置于腔体内的加热装置。本实用新型提供的一种雾化器可以根据需要灵活拆卸挡板或增加挡板来改变雾化通道的雾化路径,方便雾化路径的调整,且雾化路径的调整实现成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 雾化器 pecvd 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的