[实用新型]一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备有效
| 申请号： | 202320789496.X | 申请日： | 2023-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN219392471U | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 魏晖 | 申请（专利权）人： | 合肥清溢光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F1/76;G03F1/80 |
| 代理公司： | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人： | 殷娟 |
| 地址： | 230000 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，包括与待显影蚀刻掩膜版尺寸相适应的显影蚀刻腔，显影蚀刻腔顶部设置有腔口，腔口上设置有腔盖；显影蚀刻腔内设置有若干喷嘴和用于放置待显影蚀刻掩膜版的升降托台，喷嘴后部连接有显影液罐、蚀刻液罐和纯水罐，喷嘴前端均朝向置于升降托台上的待显影蚀刻掩膜版；升降托台上升由腔口位置伸出，完成待显影蚀刻掩膜版上下料；本实用新型的小尺寸掩膜版显影蚀刻一体化设备，专用于小尺寸测试掩膜版的显影蚀刻生产，解决产线的拥堵问题，降低研发成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺寸 掩膜版 显影 蚀刻 一体化 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥清溢光电有限公司，未经合肥清溢光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202320789496.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种透光件的供光底座
- 下一篇：一种收集仪
