[实用新型]一种等离子刻蚀设备有效
申请号: | 202320925260.4 | 申请日: | 2023-04-23 |
公开(公告)号: | CN219696390U | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 张二辉 | 申请(专利权)人: | 上海微芸半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 北京市一法律师事务所 11654 | 代理人: | 刘荣娟 |
地址: | 201299 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请提供一种等离子刻蚀设备,所述等离子刻蚀设备包括:加热腔体;陶瓷底座,设置于所述加热腔体底部,用于承载加热器;风扇,设置于所述加热腔体的第一侧,用于向所述陶瓷底座吹风降温;扇叶结构,设置于所述风扇的出风面,用于引导所述风扇吹出的气流方向;控制装置,与所述扇叶结构连接,用于控制所述扇叶结构的引导方向。本申请提供一种等离子刻蚀设备,利用可调节扇叶方向的扇叶结构来调整风扇的吹风方向,可以提高陶瓷底座表面的温度均匀性,提高陶瓷底座的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 刻蚀 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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