[实用新型]电弧离子镀设备有效
| 申请号： | 202321167344.2 | 申请日： | 2023-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN219907829U | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 唐道远;杨敏;汤全丰;陈福平 | 申请（专利权）人： | 上海电气集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/50 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 刘奉丽 |
| 地址： | 200336 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种电弧离子镀设备，所述电弧离子镀设备包括：真空腔室；若干个电弧蒸发源，所述电弧蒸发源设置于所述真空腔室的侧壁，沿侧壁的周向设置；若干对竖向设置的电极对，所述电极对设置于相邻的两个所述电弧蒸发源的间隙空间位置；旋转底座，所述旋转底座与镀膜工件的安装座连接，所述旋转底座以所述真空腔室的中心轴为旋转轴进行旋转。电弧离子镀设备通过在弧靶两侧引入电极对，能够有效的对镀膜过程中产生的大熔滴颗粒进行轰击，使其脱离膜层表面，可实现对镀膜工件的均匀镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 电弧 离子镀 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海电气集团股份有限公司，未经上海电气集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202321167344.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
