[实用新型]一种用于CVD设备的防滑加热盘有效
| 申请号： | 202321384736.4 | 申请日： | 2023-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN219689854U | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 王彬;王晓晨 | 申请（专利权）人： | 天津维普泰克科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46;C23C16/458;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人： | 郭衍飞 |
| 地址： | 300000 天津市滨海新*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种用于CVD设备的防滑加热盘，包括有用于给晶圆加热的加热盘，所述加热盘的顶面开设有若干用于放置托杆组的放置槽，所述放置槽的顶面开设有限位槽。本实用新型能够避免加热过程中晶体产生位移，降低晶体和托架损坏的概率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 设备 防滑 加热 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
