[其他]用于云纹干涉法的闪耀衍射光栅及试件栅制备工艺无效
申请号: | 85100054 | 申请日: | 1985-04-01 |
公开(公告)号: | CN85100054B | 公开(公告)日: | 1986-10-22 |
发明(设计)人: | 傅承诵;吴振华;戴福隆 | 申请(专利权)人: | 清华大学;北京光学仪器厂 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G01B11/16 |
代理公司: | 清华大学专利事务所 | 代理人: | 张秀珍 |
地址: | 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 用于云纹干涉法中的闪耀衍射光栅。本发明属用光学方法和衍射光栅元件测量固体的变形。本发明为用于云纹干涉法中的位相型闪耀衍射光栅。其断面形状为等腰三角形。密度为50~1200线/毫米的平行栅和正交栅。复制在试件表面上形成试件栅。选择等腰三角形的斜面倾角β和光栅节距p,使入射的相干准直光在所需要的m衍射极上进行闪耀,获得最大光强。利用衍射波前的干涉,可以获得代表试件表面的位移场和应变场的高灵敏度、高反差的云纹干涉条纹图。 | ||
搜索关键词: | 用于 干涉 闪耀 衍射 光栅 试件栅 制备 工艺 | ||
【主权项】:
1一种由栅体和基体构成的光栅,其特征是用于云纹干涉法中的位相型闪耀衍射光栅,其沟槽断面形状为等腰三角形。
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