[其他]真空镀膜采用致冷器的冷却方法无效
| 申请号： | 85100062 | 申请日： | 1985-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN85100062B | 公开（公告）日： | 1987-10-07 |
| 发明（设计）人： | 许知止;李春茂;周炳琨 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | F25B21/02 | 分类号： | F25B21/02;C23C14/54 |
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 真空镀膜采用致冷器冷却方法是用在被镀工件必须冷却的真空镀膜技术中。由于采用致冷器冷却，和原有的水或液氮冷却系统相比，具有体积小，结构简单，操作简便，装卸容易，效率高，成本低等优点。它特别适用于易受热损坏的镀件的真空镀膜工艺中。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 采用 致冷 冷却 方法 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜的冷却方法，其特征在于采用一个以上的半导体致冷器〔1〕冷却被镀工件〔2〕。
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