[其他]铸造光栅方法及铸造光栅无效

专利信息
申请号: 85100175 申请日: 1985-04-01
公开(公告)号: CN85100175B 公开(公告)日: 1988-03-02
发明(设计)人: 陈旃 申请(专利权)人: 电子工业部第十二研究所
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;C25D1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 北京市749*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及闪耀光栅制造方法及产品。本发明所述的铸造光栅方法,是一种可以解决机刻问题的二次复制法,它是以机刻闪耀光栅为母,先复制出许多塑料模板,再将模板经过镀金属膜和电铸加厚,铸出全金属的复制光栅,即铸造光栅。它具有与母光栅相同的闪耀特性,以及良好的耐热和导热性能。不仅可以用于光谱仪器中。而且可以代替机刻光栅用于大功率密度的激光器中,这是其他复制方法所难以做到的。
搜索关键词: 铸造 光栅 方法
【主权项】:
1.一种机刻闪耀光栅的二次复制方法,其特征在于:(1)以合格的机刻金属闪耀光栅或带有金属闪耀光栅膜的玻璃基光栅为母型;(2)由母型光栅经热压法(或浇铸法)复制出多个塑料(或树脂)闪耀光栅,这种一次子光栅也称模板,(3)在塑料(或树脂)闪耀光栅模板带有光栅槽型的表面上,用化学镀膜或真空镀膜的方法镀上一层金属膜,(4)在金属膜上电铸金属,(5)把铸件与模板分离,经切割整形和清洁处理,得到二次子光栅,即铸造闪耀光栅。
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