[其他]带有超硬沉积层的器件无效
| 申请号： | 85104959 | 申请日： | 1985-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN85104959A | 公开（公告）日： | 1987-01-07 |
| 发明（设计）人： | 赫伯特·沙克纳;比诺·拉克思;克拉斯·格兰·斯特扎姆伯格;安德斯·格斯塔·思林海因茨·蒂普门 | 申请（专利权）人： | 桑特拉德有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/22 | 分类号： | C23C16/22;C23C28/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 吴大建,全菁 |
| 地址： | 瑞士CH-6002卢*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明有关一种由衬底以及一层或者多层稠密的，细粒金刚石层构成的表面沉积层组成的复合器件，其中的金刚石微粒是互相直接接合起来的。该复合器件的硬度极高，适宜于作抗磨零件及刀具，并且很好的导热性能和极高的电绝缘阻抗又使这种复合器件在吸收电子器件中的热量方面极有用。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 沉积 器件 | ||
【主权项】：
1、包括一芯部的复合器件，其中的芯部包括下列材料之一：金属，至少两种金属的合金，金属结合型硬质金属化合物或者陶瓷材料，其特征在于，该器件的至少一部分覆盖有用化学汽相沉积(CVD)法沉积出的由一层或者多层金刚石层组成的沉积层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
