[其他]用椭圆仪监控多层介质膜的方法无效
| 申请号： | 85108747 | 申请日： | 1985-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN85108747A | 公开（公告）日： | 1987-06-17 |
| 发明（设计）人： | 沈繁宜;尚世弦;郑东东 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京师范大学专利事务所 | 代理人： | 刘守国,吴圣谷 |
| 地址： | 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种镀制多层光学薄膜的监控方法。采用椭圆偏振光测厚仪监控，真空镀膜机镀制。该方法的特征是可以方便地确定镀制某层膜所需的参量φ值和△值，也能测知该层的实际折射率和几何厚度(或光学厚度)。它适用于单层或多层介质膜，滤光片和宽带膜，λ/4膜和非λ/4膜等，是很有前途的监控方法。 | ||
| 搜索关键词： | 椭圆 监控 多层 介质 方法 | ||
【主权项】：
1、一种镀制多层光学薄膜的监控方法，在镀膜机上安装椭圆偏振光测厚仪，欲镀制第m层时，先找出镀制该层所需的ψ值和Δ值，然后将椭圆仪置于相应位置(例如消光式椭圆仪为A值和P值)，接着开镀，当镀到所需膜厚，椭圆仪将有显示(例消光式椭圆仪表现为光点达到最暗)，然后停镀，此膜即为所需的第m层膜，其特征在于找出第m层的ψ值和Δ值，不仅要考虑该层的折射率和几何厚度，还要考虑已镀的各层膜的折射率和几何厚度以及基片的折射率，所依据的公式为
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