[其他]一种离子质量数监控及锁定装置无效

专利信息
申请号: 85201295 申请日: 1985-04-16
公开(公告)号: CN85201295U 公开(公告)日: 1986-04-09
发明(设计)人: 胡瑞雯;符家平;王东宇;万洪祥 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G05B15/02 分类号: G05B15/02
代理公司: 西安交通大学专利事务所 代理人: 王民培,来智勇
地址: 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种能够对离子的质量数加以显示、控制和准确锁定的装置。其锁定精度在1-75a·m·u范围内为±0.2a·m·u在75-122a·m·u范围内为±0.3a·m·u,从而能作到双电荷、三电荷离子的注入锁定。将它安装在离子注入机上,能够保证离子注入时掺杂的纯度、精密度和重复精度,有效地提高了集成电路芯片的成品率。该装置还可用于需要对离子质量数进行监控和锁定的冶金、金属加工以及超导研究等方面。
搜索关键词: 一种 离子 质量数 监控 锁定 装置
【主权项】:
1、一种用在离子注入机上,以便对所注入元素的质量数加以监视、控制及锁定的装置,其特征在于它由吸极电压采集单元(2)、磁场信号采集及处理单元(4)、磁场激磁电流调节及控制单元(7)、微型计算机(8)、光耦合隔离器(3)和(6)组成。
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