[其他]无外加热源真空离子渗碳无效

专利信息
申请号: 86102217 申请日: 1986-04-08
公开(公告)号: CN86102217A 公开(公告)日: 1987-10-21
发明(设计)人: 杨烈宇;李国卿;鲁济顺;杨道正 申请(专利权)人: 大连海运学院
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 大连海运学院专利事务所 代理人: 焦宪长
地址: 辽宁省大*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于化学热处理,更具体地说是用于离子渗碳的设备和方法。它是在现行的普通离子氮化炉中,在阴极盘上放置工件的周围设置与工件同电位的带孔金属套,来实现高温离子渗碳。对普离子氮化炉施用本发明后,不仅能够渗碳,而且仍能进行离子氮化。本发明具有对长杆、管件和局部渗碳件便于处理,渗碳质量高,耗电耗气省等优点。
搜索关键词: 外加 热源 真空 离子 渗碳
【主权项】:
1、一种能实现高温渗碳的离子氮化炉,它由阴极输电装置、阳极、进排气装置和炉底板及炉壳组成,其特征在于:在所说的阴极输电装置的阴极盘[8]上设置一个与工件[9]同电位,且带有通孔[13]的金属套[12];所说的进排气装置的进气管[19]的顶部接一带孔[15]的散流环形管[14],孔[15]朝向炉的顶部,在排气管[24]的顶部接一带孔[26]的环形管[4],环形管[4]上孔[26]朝向炉底板[1];
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