[其他]涂敷光刻胶的方法无效
| 申请号： | 86103644 | 申请日： | 1986-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN86103644B | 公开（公告）日： | 1988-11-23 |
| 发明（设计）人： | 伊藤铁男;田沼正之;込义之;门田和也;小林一成 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/312 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光刻工艺，包括在衬底上旋涂光刻胶并将掩膜图形转移到光刻胶上而后进行曝光，及在图形被曝光后在衬底上形成该图形。当光刻胶显影图形因涂敷光刻胶工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时，将参数的值设置到与脉动的极值相符。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂敷光刻胶的方法，包括下列步骤：将光刻胶旋转涂敷在衬底上，将掩膜图形转移到涂好的光刻胶膜上，而后对光刻胶膜进行曝光并将其显影，从而在衬底上形成图形，其特征在于还包括下列步骤；(a)测量具有各种厚度的光刻胶显影图形以找出所测得的宽度——厚度曲线的极值；(b)利用可响应所述光刻胶的厚度而变化的参数在衬底上形成光刻胶，所述参数设置到基本上与上述极值之一相应。
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