[其他]光记录方法和采用该方法的装置无效
| 申请号： | 86107205 | 申请日： | 1986-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN86107205A | 公开（公告）日： | 1987-05-20 |
| 发明（设计）人： | 坪井信义;渡部笃美;佐藤美雄;田智;佐佐木宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G11B7/007 | 分类号： | G11B7/007 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 确定光记录介质在被加热到第一温度以上之后受到冷却的第一状态的光点，和确定光记录介质在被加热到室温以上但不超过第一温度的第二温度之后受到冷却的第二状态的光点。即，两个光点照在光记录介质上，并处在其上的同一导轨中，通过控制每个光点的光点直径和/或它们的光强，在光记录介质上记录和消抹信号。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 方法 采用 装置 | ||
【主权项】：
1、光记录装置，包括：光记录介质，其中它的一部分受到光点照射，并保持在第一种结构，而当所述部分被加热到超过预定的高于室温的温度并随后冷却下来时，所述部分变成第二种结构，所述第二种结构的光学特性不同于所述第一种结构的光学特性；其特征在于：光学装置，用来并沿着它的记录轨道照射所述光记录介质的两个光点，包括前光点和紧邻前光点的后光点；光强调节装置，用于调节前光点的强度以将所述光记录介质的一部分预热到超过室温但不超过预定温度的温度范围内，并用于向预热后的部位的至少一部分照射强度大于前光点强度的后光点以使被照射部位的温度超过预定值，从而形成所述第二种结构。
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