[其他]用于表面材料合成的真空反应室无效
| 申请号： | 86204249 | 申请日： | 1986-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN86204249U | 公开（公告）日： | 1987-04-15 |
| 发明（设计）人： | 张弋飞 | 申请（专利权）人： | 张弋飞 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36;C23C14/38 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 包冠乾 |
| 地址： | 北京市西*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 用于表面材料合成的真空反应室装置，它可用来对工件表面进行渗非金属元素或渗金属等操作。该真空室壁不采用通冷却水结构，而采用充填绝热材料层的结构，反应室内设有热交换器，风扇及灭弧电阻。反应室为分体式结构，由固定室和活动室组成。活动室可以沿导轨运动而与固定室分开或合紧。该真空反应室热能损失小、升温快。冷却时能加快冷却速度。提高工作效率，并且易于进行装卸工件的操作以及易于进行检修和保养。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 材料 合成 真空 反应 | ||
【主权项】：
1、用于表面材料合成的真空反应室，其特征在于，反应室壁带有绝热材料层，反应室内设有热交换器及风扇。
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